半导体行业洁净室要求

对半导体行业洁净室的要求如下:

1. 清洁度要求高

半导体制造需要非常严格的洁净环境。洁净室内的空气清洁度根据不同的半导体工艺要求而有所不同,一般要达到Class 1(等于或低于每立方英尺1个0.1微米颗粒)到Class 100(等于或低于每立方英尺100个0.5微米颗粒)的标准。

2. 温湿度控制准确

半导体材料对温度和湿度非常敏感。洁净室需要严格控制在20-25°C,相对湿度在40-60%的范围内,波动不能超过±1°C和±5%RH。

3. 供配电可靠稳定

洁净室需要专门的供配电系统,要提供稳定、冗余的电力供应,确保工艺设备正常且不间断运行。同时需要具备保护和过滤功能,防止电源干扰。

4. 无尘空气流动合理

洁净室内需配置无尘空气过滤与流通系统,保证气流分布合理,无死角,使洁净空气充分到达每个角落。气流速度和气压也要严格控制,防止外间空气倒灌或扰动。

5. 防震设计完善

考虑到半导体工艺的稳定性要求,洁净室通常需要采用防震措施,减小外界振动对工艺的影响。地基要足够稳固,配备缓冲装置。

6. 材料选择无尘无污染

洁净室内表面材料必须无尘无污染,不会产生颗粒。不锈钢、铝板、钢化玻璃等都是常用材料。入口处需要设置气幕,预防尘埃进入。