半导体芯片制造的工艺质量挑战

半导体芯片工艺面临挑战

半导体芯片制造是现代科技产业中，

至关重要的领域之一。

它不仅支撑着电子设备的革命性发展，

还在各个领域的科学研究

与工业生产中，

发挥着关键作用。

然而，半导体芯片的制造是一个

高度精密高度洁净的过程，

对空气质量和环境控制有极高的要求。

如晶圆制造、光刻、外延生长、 

刻蚀、封装测试等。 

空气质量的控制面临诸多难题， 

那么，空气过滤解决方案  

如何应对行业中的挑战。

纳米级颗粒污染

纳米级颗粒污染会影响芯片的良率。在晶圆制造、光刻、涂层、刻蚀等过程中,空气中的微尘颗粒很容易附着在晶圆表面,大于0.1μm的颗粒可能会划伤晶圆表面或者导致电路短路,从而降低产品良率。

碱性气体

碱性气态污染物会降低光刻胶的黏附力。在光刻加工过程中使用的照相胶液非常敏感,空气中的微量碱性气态污染物就可能干扰光刻化学反应,降低胶液的黏附力,无法准确转移电路图形,这会直接导致产品失效。碱性气态污染物的浓度需要控制在ppb量级。

酸性气体

酸性腐蚀气体会损坏精密设备，如氯气和氟化氢等,会侵蚀精密的半导体设备表面、管路等,缩短设备寿命。为了安全生产，这些气体浓度必须控制在ppb级。采用干法过滤技术有效去除这些腐蚀性气体。

工艺用化学品的挥发

半导体生产用到的各种化学试剂和溶剂中都含有一定的挥发性气体,如氨、乙酸等,这些挥发性气体污染会影响产品质量。这些气体的浓度要严格控制,如氨浓度低于25ppb,乙酸低于10ppb。

高温或低湿环境

光刻区的温度湿度都需要控制标准范围内,否则会影响光刻化学反应过程。这需要新风空调系统提供精确的温湿度条件。

工艺安全和设备可靠运行

工艺安全性和设备可靠运行至关重要，半导体生产设备的连续可靠运行时间长达数月之久,空气过滤系统的可靠性需要大于99%。而通过持续监控和维护，确保系统稳定性和设备可用性，空气过滤产品需要提供持续的生命周期支持。

中建南方的空气过滤解决方案：

针对电池生产过程中的复杂挑战,中建南方过滤器为不同工艺阶段提供定制化的空气过滤系统,能有效净化各种污染物,确保洁净的生产环境。

高效低阻力的超细纤维空气过滤器,过滤纳米级颗粒。

抗碱性气体的气相过滤技术,保护光刻工艺无缺陷。

除酸过滤器，保护设备及生产工艺的安全。

全方位定制化过滤器，有效保护生产与工艺机台设备。

HEPA滤芯采用无硼材料保护半导体器件电学性能。

低阻节能设计，大量减少能源消耗，降低运营成本。

防静电设计,避免静电放电问题。

多级组合过滤系统,应对复杂污染物。

高温高湿作业环境的空气处理系统。

7*24小时的持续可靠运行过滤器。

个性化的系统集成方案,量身定制。

完善的维护监测服务,确保过滤效果。